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  • GSL-1800X-ZF2 蒸发镀膜仪
    GSL-1800X-ZF2 蒸发镀膜仪

    GSL-1800X-ZF2 蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:1178
  • GSL-1800X-ZF4 蒸发镀膜仪
    GSL-1800X-ZF4 蒸发镀膜仪

    GSL-1800X-ZF4 蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪,特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜(如Ti、Al、Au等),也可蒸镀各种氧化物材料。本机设有4个蒸镀加热舟,且每个蒸镀舟都带有挡板。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜,可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求,是一款镀膜效果理想且性价较高的实验设备。

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:1188
  • OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜(CSS)炉
    OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜(CSS)炉

    OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜(CSS)炉专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。管式炉炉管直径为11“ OD,炉管内载样盘可放置3“ 的圆形或2“x2“的方形基片。加热元件为两组红外灯管,分别安装在腔体的顶端和底部,其升温速率高达20ºC/S 。温控系统为PID30段程序化控制,控温精度为+/-1ºC。仪器面板上带有RS485接口,仪表内配有控温软件,可将升温程序和曲线导出。

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:1042
  • 钙钛矿镀膜机
    钙钛矿镀膜机

    钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:1399
  • OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋转蒸发镀膜炉
    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋转蒸发镀膜炉

    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋转蒸发镀膜炉,其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门设计针对于热蒸发或CSS(Close Spaced Sublimation)镀膜实验,其镀膜面积可达到5“x5“,并且顶部载样台可旋转,提高镀膜均匀性。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管(分别位于顶部和底部),大升温速率为10ºC/s 。对于探索新一代的薄膜太阳能电池,

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:957
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