双靶磁控溅射仪

● 输入电源：220V AC 50/60Hz
● 功率：＜2KW（包含真空泵）
● 溅射电源：安装有两个溅射电源：
● 直流（DC）电源：500W，针对于制作金属膜
● 射频（RF）电源：300W，可制作氧化物和金属膜

● 体积小，操作简便
● 真空腔室、真空泵组整机模块化设计，控制电源为分体式设计，可根据用户实际需要调整购买需求。
● 可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪，购买前请联系我公司销售。

● 仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头，而且都带有水冷夹层（图一）
● 一个溅射头与射频电源相连接，主要是溅射绝缘性靶材
● 另一个溅射头与直流电源相连接，主要溅射导电性靶材
● 靶材尺寸要求：直径为50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
● 可以单独订购RF连接线作为备用（图二）
● 设备包含一台水冷机，用于靶头冷却（图三）
   

● 载样台尺寸：φ140mm（最大可放置4"的基底）
● 载样台可以旋转，其速度为：1 - 20 rpm （可调）
● 载样台最高可加热温度为500℃

● 真空腔体：φ300 mm  x 300 mm H，采用不锈钢制作
● 观察窗口：φ100 mm
● 腔体打开方式采用上顶开，使得换靶更加容易

● 仪器内部安装有2个质量流量计，量程为：0-100sccm
● 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
● 此系统运行需要Ar气，并且气瓶上安装有减压阀（设备中不包含）

● 配有一套GZK-103D分子泵系统（德国制作）
● 标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar（仅供参考，详情请点击）

● 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å
● LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据

L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

● 此设备为DIY设备，参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通
● 为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N）
● 在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
● 要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面
● 超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。
● 等离子清洗（详细参数点击下面图片）：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。
● 制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力

● 注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。
● 气瓶上应安装减压阀（设备标配不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
● 溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

CE认证