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2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪

2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪

简要描述:VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
VTC-2RF 2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪

产品型号: VTC-2RF

所属分类:等离子镀膜设备

更新时间:2023-11-06

厂商性质:生产厂家

详情介绍

VTC-2RF 2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,

系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、

真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。

性能指标和基本配置
我们用此设备得到择优取向的ZnO薄膜image.png
主要参数

● 输入电源:220V AC 50/60Hz
● 整机功率:800W(包括真空泵)
● 射频电源最高使用功率:300W
● 靶头数量:单个2英寸磁控溅射靶头
● 样品台加热温度:500℃

溅射腔体

● 采用石英腔体,尺寸:166 mm OD×150 mm ID×250 mm H
● 密封法兰:直径为165 mm,采用金属制作,密封采用O形密封圈

射频电源

● 该设备有两种射频电源可选分别为:(图一、二)
● 300W自动匹配射频电源
● 100W的手动匹配射频电源
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图1                  图2
注意:
● 2英寸靶头最大使用功率为300W
● 自动射频电源的最大功率为300W,但是受靶头限制,最大功率只能使用100W
● 自动匹配电源价格相对贵,但是操作非常方便,无需手动调节,可以节约时间
● 此设备支持多种DIY方案,购买前请务必与我公司销售联系,同时欢迎您带料到科晶实验室实验

溅射头&样品台

● 一个2英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接
● 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台,其与溅射头之间距离可调
● 样品台可加热,加热温度室温-500℃
● 安装有一可手动操作的挡板
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真空系统

● 安装有KF25真空接口
● 数字真空压力表(Pa)
● 此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)
● < 1.0E-2 Torr(采用机械泵)(参考值,详情请点击)
● < 1.0E-5 Torr(采用涡旋分子泵)(参考值,详情请点击)
● 可在本公司选购各种真空泵
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进气

● 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶
● 设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

靶材

● 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-3) mm(厚度)
● 可在本公司选购各种靶材
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薄膜测厚仪(可选)

可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上
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产品尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H
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净重70 kg(不包括泵)
使用提示

● 此设备有多种DIY方案可供选择,具体请联系销售部
● 为了保证溅射效果,非导电靶材必须安装铜垫块
● 可在本公司购买单晶基片从A到Z(点击下图查看详情)
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本公司溅射镀膜机在500℃已经成功将ZnO溅射在Al2O3衬底上(点击下图查看XRD图谱)
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● 有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜
● 为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)
● 在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
● 要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面
● 超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。
● 等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。
● 制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。
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    超声波清洗机         等离子清洗机              蒸镀仪                     手套箱

警告

● 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。
● 气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

认证

image.pngCE认证

保修期一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内
点击查看售后服务承诺书。



VTC-2RF  2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪

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