应用范围：MSK-PSS-MC1010磁控溅射仪可在衬底基片上溅射一层薄膜，原理是由惰性工艺气体产生辉光放电现象生成带电离子，带电离子经过电场加速后轰击固体靶材表面，使靶材表面原子和分子被轰击飞溅出来，同时产生二次电子，再次撞击气体原子而形成更多的带电离子，从靶材溅射出来的粒子在低压气氛中向硅片作渡越运动，碰撞到衬底基片上并被基片吸附，最终凝聚在衬底形成需要的薄膜。

应用范围：MSK-PSE-EC1515-D共蒸六源钙钛矿真空镀膜仪配备6组蒸发源，可蒸镀切换最多6种有机材料，也可同时共蒸2种材料如：Cu、Ag、PbI2、CsBr等材料；设备可与手套箱对接方便在手套箱中操作，采用前滑动开门结构。设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。

应用范围： MSK-PSE-EC1515六源真空蒸镀仪配备3组有机束源式蒸发源炉+3组舟式蒸发源，可蒸镀切换最多6种有机材料如：Cu、Ag、C60、NPB、TPBi等材料；设备可与手套箱对接方便在手套箱中操作，采用前滑动开门结构。设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等。

应用范围：PCE-22-LD是一款可加热的紫外臭氧清洗机，其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片，为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶，改善表面润湿性，清洗SEM＆TEM，紫外对聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别清洗手段，特别适合清除一些有机化合物，紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭气

--小型等离子清洗机 应用范围：PCE-6小型等离子清洗机的等离子腔体为Ø160mm×190mm的石英腔体，采用的射频电源功率3.0MHz（1%），输出功率7.2W、10.2W、29.6W三档可调。本机主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物，同时也可改变物体表面的性质（如亲水和疏水性等），对于基片的清洗以及薄膜处理是较为理想的设备。