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  • GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
    GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪

    GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最-简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。

    更新时间:2023-11-06型号:GSL-1100X-SPC-16-3浏览量:1032
  • GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
    GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪

    GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最-简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。

    更新时间:2023-11-06型号:GSL-1100X-SPC-16M浏览量:1476
  • VTC-1RF1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪
    VTC-1RF1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪

    VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。 VTC-1RF 1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪

    更新时间:2023-11-06型号:VTC-1RF浏览量:1361
  • VTC-2RF2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪
    VTC-2RF2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪

    VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。 VTC-2RF 2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪

    更新时间:2023-11-06型号:VTC-2RF浏览量:1385
  • VTC-16-3HD小型三靶等离子溅射仪
    VTC-16-3HD小型三靶等离子溅射仪

    VTC-16-3HD是一款紧凑型CE认证的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),基片最大尺寸2英寸,加热温度为500度和控制面板为触摸屏模式。它可以溅射三种类型的靶材和放置样品的直径是50mm . 旋转样品台,可以依次在同一样品上涂覆三种材料,金靶,银,铜, 它可以与真空泵,不锈钢波纹管KFD25快速卸装卡箍相连用。 VTC-16-3HD小型三靶等离子溅射仪

    更新时间:2023-11-06型号:VTC-16-3HD浏览量:977
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