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  • OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜(CSS)炉
    OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜(CSS)炉

    OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜(CSS)炉专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。管式炉炉管直径为11“ OD,炉管内载样盘可放置3“ 的圆形或2“x2“的方形基片。加热元件为两组红外灯管,分别安装在腔体的顶端和底部,其升温速率高达20ºC/S 。温控系统为PID30段程序化控制,控温精度为+/-1ºC。仪器面板上带有RS485接口,仪表内配有控温软件,可将升温程序和曲线导出。

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:1042
  • 钙钛矿镀膜机
    钙钛矿镀膜机

    钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:1399
  • OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋转蒸发镀膜炉
    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋转蒸发镀膜炉

    OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋转蒸发镀膜炉,其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门设计针对于热蒸发或CSS(Close Spaced Sublimation)镀膜实验,其镀膜面积可达到5“x5“,并且顶部载样台可旋转,提高镀膜均匀性。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管(分别位于顶部和底部),大升温速率为10ºC/s 。对于探索新一代的薄膜太阳能电池,

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:957
  • GSL-1700X-EV4 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪
    GSL-1700X-EV4 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪

    GSL-1700X-EV4 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪是一款小型温控型蒸发镀膜仪,内部设有4个蒸发坩埚,且每个蒸发坩埚都带有挡板,多可放置4种不同的蒸发物料,可在同一气氛下依次镀膜,实现多层膜的沉积工艺。可程序控温,控温范围200-1500℃(选用B型热电偶:1200℃-1700℃),大可蒸镀直径2英寸薄膜样品,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

    更新时间:2023-11-06型号:浏览量:1086
  • VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

    更新时间:2023-11-06型号:VTC-600-2HD浏览量:1377
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